TDI改性纳米SiO_2表面  

Modifiying the nano-SiO_2 surface with TDI

作　　者：钱翼清[1] 范牛奔[1] 孟海兵[1] 

机构地区：[1]南京化工大学材料科学与工程学院高分子材料工程国家重点实验室,江苏南京210009

出　　处：《功能材料》2001年第6期652-654,共3页Journal of Functional Materials

基　　金：高分子材料工程国家重点实验室资助项目 ;江苏省科委资助项目

摘　　要：甲苯二异氰酸酯 (TDI)中的—NCO基团与纳米SiO2表面的—OH反应可使高反应活性的—NCO键合到SiO2 上 ,从而有效地改性了纳米SiO2 的表面。本文系统地研究了反应物质量比、反应温度、溶剂种类和用量、纳米SiO2 的活化处理等诸多因素对TDI与SiO2 表面—OH反应的影响 。The reaction of nano SiO 2 surface with TDI was carried out. It was bonded to the nano SiO 2 surface. The nano SiO 2 surface was modified notably by TDI. Influences of mass ratio of nano SiO 2/TDI, reaction temperature, kind and amount of solvent and activation treatment of nano SiO 2 on the reaction were investigated. The modified nano SiO 2 was analyzed by FTIR and TGA.

关 键 词：表面改性 二氧化硅 甲苯二异氰酸酯 纳米材料 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程] O613.72[理学—无机化学]