凹型Si微透镜阵列的制作  

FABRICATION OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY

作　　者：何苗[1] 易新建[1] 程祖海[1] 刘鲁勤[2] 王英瑞[2] 

机构地区：[1]华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北武汉430074 [2]中国航天总公司二院25所,北京100854

出　　处：《红外与毫米波学报》2002年第1期33-36,共4页Journal of Infrared and Millimeter Waves

基　　金：国家自然科学基金 (编号 6 0 0 0 86 0 0 3)资助项目~~

摘　　要：提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出 6 4× 2 5 6凹柱面折射微透镜阵列 ,扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列 ,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好 ,其平均凹深为 2 .6 43μm ,凹深非均匀性为 8.45 % ,平均焦距为 - 47.0 8μm .64 x 256 elements Si concave microlenses array was fabricated by a new method, i.e. the curvature inversion method. Scanning electron microscope (SEM) shows that microlenses have distinct concave cylinder contour. Surface stylus measurement shows that the concave microlenses array has smooth surface and uniform dimensions. For the concave microlenses array, the average depth of concave spherical surface is 2.643mum, the nonuniformity of the depth is 8.45% and the average focal length is -47.08mum.

关 键 词：SI 凹微透镜阵列 氩离子束刻蚀 硅 制作 曲率倒易法 

分 类 号：TH74[机械工程—光学工程] TN305.7[机械工程—仪器科学与技术]