X射线导常散射研究NiFe／Cu多层膜结构  

作　　者：罗光明[1] 蒋海英[2] 等 

机构地区：[1]中科院物理所及凝聚态物理中心，北京100080 [2]中科院高能物理研究所国家同步辐射实验室，北京100039

出　　处：《北京同步辐射装置年报》1997年第1期72-73,共2页

摘　　要：本文利用X射线小角衍射和漫散射技术研究了两组具有不同GMR的NiFe/Cu多层膜样品的界面结构。利用在CuK吸收边附近的能量扫描得出了关于NiFe和Cu层的结晶性情况。结果表明两组样品在界面结构和结构性上有明显的区别。另外，我们还发现NiFe和Cu层的原子密度差别比块材料的差别大27％。

关 键 词：X射线导常散射 NiFe/Cu多层膜 结构 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]