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作 者:刘寿荣[1] 郝建民[2] 褚连青[2] 宋俊亭[1]
机构地区:[1]天津硬质合金研究所,天津300222 [2]天津电子材料研究所,天津300192
出 处:《材料热处理学报》2002年第1期32-35,共4页Transactions of Materials and Heat Treatment
基 金:天津市自然科学基金资助 (99360 2 81 1 )
摘 要:用高温X射线衍射装置通过由室温到 130 0℃连续升温过程中XRD分析探讨了WC 2 0Co硬质合金真空烧结过程渗硼的机理。结果表明 ,在真空烧结升温期间 ,WC Co合金压坯表面上预置的供硼剂B4C在 85 0℃以上分解出活性硼原子 ;除在压坯表面形成含硼化合物外 ,还向压坯内钴相中扩散固溶并形成不均匀分布的羽毛状W2 Co2 1 B6 化合物 ,渗硼层厚达 2 2mm ,WC Co硬质合金真空烧结过程有效渗硼的温度范围为 85 0~ 10 0The dynamic XRD phase analysis for the coated surface with B\-4C of WC\|20 Co cemented carbide sample during vacuum\|heating from room temperature to 1300℃ was carried out by high\|temperature X\|Ray diffraction apparatus. The causes show that, the high concentration active boron atoms released from the boron\|supply agent B\-4C located on the surface of alloy blank above 850℃, forming boron\|bearing compounds on the blank surface, and diffuse into the Co\|phase in blank leading to forming the non\|homogeneous distribution of high cobalt\|bearing feathered W\-2Co\-\{21\}B\-6 compound. The thickness of boronised layer is 2.2 mm. The effective temperature range is 850℃~1000℃ for boronising during vacuum\|sintering WC\|Co cemented carbide.
分 类 号:TF124.53[冶金工程—粉末冶金] TF125.3[冶金工程—冶金物理化学]
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