LOW-E薄膜光学性能的计算机辅助模拟  

CAS of Optical Performance of Low E Film

作　　者：许俊[1] 姚寿山[1] 

机构地区：[1]上海交通大学材料科学与工程学院,200030

出　　处：《金属功能材料》2002年第2期21-25,共5页Metallic Functional Materials

摘　　要：自从七十年代末开始 ,在玻璃基底上沉积光学薄膜的真空镀膜进入了一个稳定的增长期 ,近几年低辐射(LOW E)镀膜层的结构逐渐成为一个研究热点。本文就低辐射镀膜层的理论光学特性的计算机辅助模拟 (CAS)进行了探讨。在可见光和红外区范围内进行的光学测量显示了理论计算与实验结果的不同之处。Vaccum film plating for depositing optical film on glass base has been entering into a stable increasing stage since 1970 While the structure of low E plating film layer has become the hot spot of studies recent years CAS for theoretical optical performance of low E plated film layer is discussed The optical measurement made in visible and infrared area shows the difference between theoretical calculations and the experimental results

关 键 词：LOW-E薄膜 光学性能 计算机辅助模拟 低辐射镀膜层 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]