原子力显微镜用于软X射线接触成像的研究  

Soft X-Ray Contact Microscopy by an Atomic Force Microscope

作　　者：蒋诗平 张玉煊 高鸿奕 陈建文 张新夷 徐至展 

机构地区：中国科技大学国家同步辐射实验室,合肥,230029中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800[1] 复旦大学物理系,上海,200433[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800[3] 中国科技大学国家同步辐射实验室,合肥,230029[4]

出　　处：《光学学报》2002年第1期118-120,共3页Acta Optica Sinica

基　　金：国家自然科学基金 (196 5 5 0 0 1);合肥国家同步辐射实验室开放基金资助课题

摘　　要：论述了在接触显微成像技术中 ,后续放大设备对分辨率的影响 ,并用实验方法比较了采用光学显微镜和原子力显微镜阅读并放大显微图的结果 。The instruments for reading relief in the photoresist related with the resolutions of soft X-ray contact microimaging are described. Comparing the micrographs made by an atomic force microscope with that by optical microscopes experimentally, the conclusion can be drawn that the atomic force microscope is a very good method for amplifying the images in the resists.

关 键 词：原子力显微镜 软X射线 接触成像 X射线显微术 显微图像 

分 类 号：O434.1[机械工程—光学工程] TH742[理学—光学]