择优生长CdS纳米微粒膜的制备和性能研究  

The Preparation and Characterization of Growing Preferentially CdS Nanopartile Film

作　　者：黄怀国 席燕燕[2] 郑志新[2] 颜佳伟[2] 周剑章[2] 吴玲玲[2] 林仲华[2] 

机构地区：[1]厦门紫金科技股份有限公司 [2]厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室化学系物理化学研究所,福建厦门361005

出　　处：《电化学》2002年第2期195-201,共7页Journal of Electrochemistry

基　　金：国家自然科学基金 ( 2 983 3 0 60 ;2 0 0 2 3 0 0 1 ) ;教育部科技研究 ( 991 77) ;福建省青年科技人才创新项目基金 ( 2 0 0 1J0 3 1 )资助项目

摘　　要：利用恒电流阴极还原法或电流脉冲法在聚苯胺膜、PATP膜、Au膜和ITO基体上制备了CdS纳米微粒膜 ,并对其结构和紫外_可见吸收等性质进行初步表征 .CdS nanoparticle films were prepared on the PANI film,PATP film,Au film and ITO respectively by constant current deposition or current impulse method,and their structure and character were also studied.The results show that the substrates influence the structure and character of CdS particle film.

关 键 词：择优生长 CDS 纳米微粒膜 制备 性能 纳米半导体 硫化镉 光电化学 

分 类 号：O649[理学—物理化学]