制冷红外焦平面阵列响应特性的研究  

作　　者：詹东军 

机构地区：[1]华中光电技术研究所-武汉光电国家实验室,湖北武汉430073

出　　处：《硅谷》2014年第14期57-58,39,共3页

摘　　要：文章分析了制冷红外焦平面阵列(IRFPA)的响应模型及响应特性,利用恒温黑体采集某320*256长波红外焦平面阵列在不同辐射下的响应数据得到其非线性响应曲线,然后讨论分析响应曲线,在实际应用中划分不同的线性响应段,通过调整合适的积分时间结合两点温度定标法对图像的非均匀性进行线性校正,效果良好。

关 键 词：焦平面阵列 响应特性 入射辐射 积分时间 非均匀性校正 

分 类 号：TN215[电子电信—物理电子学]