低真空脉冲离子氮化工艺试验  

Pulsed ion nitriding process test in low vacuum

作　　者：赵亮[1] 张忠和[1] 牛珊[2] 王鹰[1] 王博[1] 李秀刚[1] 温立新[3] 刘舒 

机构地区：[1]沈阳鼓风机集团股份有限公司,辽宁沈阳110869 [2]东北大学,辽宁沈阳110004 [3]沈阳超力钢筋有限公司,辽宁沈阳110179 [4]沈阳恒进真空科技有限公司,辽宁沈阳110168

出　　处：《真空》2014年第5期51-53,共3页Vacuum

摘　　要：本文就低真空脉冲离子氮化这种新设备、新技术进行了工艺试验。应用金相检验、扫描电子显微镜分析、X射线能谱分析等进行了检测分析。确定了低真空脉冲离子氮化的最佳工艺参数,制定出脉冲离子氮化的热处理工艺方案。A process test was conducted for tile new equipment and teehnology of low vacuum pulsed ion nitriding. The metallographic examination, scanning electron mieroscopy and X-ray energy spectrum were used for analysis. The optimum prot＇ess parameters and the heat treatment processes had been determined.

关 键 词：脉冲离子氮化 35CrMoV 工艺试验 

分 类 号：TB79[一般工业技术—真空技术] TG156.8[金属学及工艺—热处理]