离子镀膜法制备铀薄膜的表征  

Characterization of Uranium Thin Film Prepared by Ion Plating

作　　者：于震[1] 孙亮[1] 张志忠[1] 张生栋[2] 张晓卫[1] 

机构地区：[1]核工业理化工程研究院,天津300180 [2]中国原子能科学研究院放射化学研究所,北京102413

出　　处：《核化学与放射化学》2014年第5期277-281,共5页Journal of Nuclear and Radiochemistry

摘　　要：研究了离子镀膜法制备铀薄膜的性质,可为改善薄膜性能、完善过程模型、优化制备参数和提高制备效率提供依据。本工作通过扫描电子显微镜和X射线衍射分别测量了离子镀膜法制备铀薄膜的表面形貌和物相结构,通过俄歇电子能谱和X射线光电子能谱结合Ar+溅射深度剖析,对离子镀膜法制备铀薄膜的元素成分、化学形态及纵深方向的分布进行了分析。分析结果表明:制备的铀薄膜在基体上分布连续,主要物相为CaF2类型面心结构UO2,主要形态为UO2、金属U和FeUO4化合物。Uranium thin film prepared by ion plating was characterized on aspects of val-ances,components,morphology and compact texture,with X-ray photoelectron spectrosco-py （XPS）,Auger electron spectroscopy （AES）,scanning electron microscopy （SEM）and X-ray diffraction （XRD）.The results indicate that uranium thin film on the stainless steel matrix is continuous and consists of UO2 ,metal U and FeUO4 .The analysis also reveals that the crystal structure of thin film is a face-centered cubic.

关 键 词：铀膜 离子镀膜 形貌 结构 价态 组成 

分 类 号：TL271.91[核科学技术—核燃料循环与材料]