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作 者:谢金华[1] 陈慧[1] 段建国[1] 唐贤臣[1]
出 处:《广东化工》2014年第22期137-138,共2页Guangdong Chemical Industry
摘 要:分析了一般真空化学气相沉积制备Parylene膜系统的原理、组成和局限性。在通用系统的基础上,设计了一种能满足多种需求,具备多种功能的Parylene膜真空气相沉积系统。该系统能直接控制原料进入裂解炉的速率,控制基体的温度,配置的高真空单元可以对基体进行除气处理,差分四极质谱单元可以实时分析成膜过程中气体成分变化,采用O’hanlon方法可以计算气体的抽速。In the study, the principle, configuration and defect of general Parylene deposition system are summarized. A multifunctional deposition system is designed depend on general Parylene deposition system. A high temperature adjustable-flow valve is used between the sublimation furnace and the pyrolysis furnace to control dimmer flow and therefore control the chamber pressure. A diffusion pump system is assembled to increase vacuum to 10-5 Pa. Differentially Pumped quadruple mass spectrometers have been used for process analysis. The flow of vapor can be determined indirectly using methods detailed by O’hanlon.
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