检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:吴军[1] 毛旭峰[1] 万志远[1] 李沛[1] 韩福忠[1]
出 处:《红外技术》2014年第12期973-975,共3页Infrared Technology
基 金:国防基础科研项目
摘 要:由碲镉汞薄膜材料的厚度不均匀性入手,改进水平滑舟液相外延工艺,从而改善了碲镉汞薄膜材料组分均匀性,使距薄膜边缘1.5 mm(衬底边缘2.5 mm)以内的薄膜材料组分均匀性得到了长足的提高,增大了薄膜材料用于制备焦平面器件的利用率。中波碲镉汞材料(?1/2(77 K)=4.8?m)?x≤0.001,与国外水平相当。Through improving the thickness uniformity of HgCdTe films by optimizing the art of LPE in the slider technique, we have upgraded compositional uniformity of films. Within the border of films 1.5mm, the films’ composition is uniform. The area which can prepare for the infrared devices increases to a great extent.△x-values of the MWIR films of HgCdTe(λ1/2(77 K)=4.8μm) are less than or equal to 0.001, which is same as the foreign level.
分 类 号:TN304.25[电子电信—物理电子学]
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