应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析  

Analysis on magnetic field aided arc source in arc ion plating for application in tool coating and its discharge characteristic

作　　者：郎文昌[1] 徐焱良 杜昊[3] 肖金泉[3] 高斌[1] 吴百中[1] 

机构地区：[1]温州职业技术学院温州市材料成型工艺与模具技术重点实验室,浙江温州325035 [2]温州大学物理与电子信息工程学院,浙江温州325035 [3]中国科学院金属研究所材料表面工程研究部,辽宁沈阳110016

出　　处：《真空》2015年第1期39-44,共6页Vacuum

基　　金：浙江省自然科学基金(LQ12E01003);浙江省公益计划项目(2012C21099)

摘　　要：针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。The structure, principle, arc spot movement and discharge characteristic of magnetic field assisted arc source applied to tool coatings were analyzed. The cathodes controlled by different magnetic field were compared in target structure, field config- uration, whose effect is also discussed on movement and discharge characteristic of arc spot, as well as coating/film deposition. The trend for arc source assisted by magnetic field in arc ion plating is forecasted.

关 键 词：矩形平面大弧源 旋转式柱形弧源 机械式旋转磁控弧源 电磁式旋转磁控弧源 多模式动态磁控弧源 

分 类 号：TB43[一般工业技术] TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]