次世代微影术及其非破坏式光学量测系统之研究  

作　　者：李彦旻 李佳翰[1] 

机构地区：[1]中国台湾大学

出　　处：《机械工程学报》2015年第6期26-26,共1页Journal of Mechanical Engineering

摘　　要：本论文可概分为三部分：1改善用于极紫外光（Extreme ultraviolet,EUV）微影系统之多层膜反射镜之反射率以及其等效计算方法;2开发用于多尺度（multi-scale）电子束直写（Electron-beam directwrite,EBDW）微影系统之数值计算方法;3开发非破坏式光学检测系统用于量测光阻线（photo-resist lines）之几何外形与多层膜彩色滤光片（color filter）之光学性质。对于极紫外光反射镜之研究,我们设计了以40层钼/硅多层膜为基底之光子晶体（photonic crystal）反射镜。

关 键 词：量测系统 滤光片 几何外形 PHOTONIC ULTRAVIOLET 光学检测 光子晶体 次世代 RESIST 光学性质 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]