KLA—Tencor以全新测量系统扩充其5D^TM图型控制方案  

在线阅读下载全文

出  处:《中国集成电路》2015年第4期8-8,共1页China lntegrated Circuit

摘  要:日前,KLA—Tencor推出两款量测系统,可支持16nm及以下尺寸集成电路器件的开发和生产:ArcherTM500LCM和SpectraFilmTMLD10。Archer500LCM套刻测量系统在提升成品率的所有阶段提供了准确的套刻误差反馈,可帮助芯片制造商解决新的图型套刻问题,例如多层光刻和隔离层掩膜分割。通过对薄膜厚度和应力进行可靠、准确的测量,SpectraFilmLD10薄膜测量系统能对FinFETs、3DNAND和其他前沿器件中使用的薄膜和薄膜堆层进行检验和监测。

关 键 词:测量系统 KLA 控制方案 系统扩充 TM图 集成电路器件 薄膜厚度 芯片制造商 

分 类 号:TN4[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象