基于电化学腐蚀法的钨探针制备研究  

Research on preparation of tungsten probe based on electrochemical corrosion method

作　　者：孙宏君[1] 裘进浩[1] 季宏丽[1] 朱孔军[1] 陈远晟[2] 

机构地区：[1]南京航空航天大学机械结构力学及控制国家重点实验室,江苏南京210016 [2]南京理工大学能源与动力工程学院,江苏南京210094

出　　处：《应用化工》2015年第4期761-763,共3页Applied Chemical Industry

基　　金：国家自然科学基金资助项目(11372133);国家自然科学基金资助项目(51405235);江苏高校优势学科建设工程资助项目

摘　　要：根据电化学腐蚀法的基本原理,研究了简单易操作的钨探针的制备方法,并设计了相应的装置。结果表明,在腐蚀溶液Na OH浓度2 mol/L,电压2 V的条件下,得到了尖端曲率半径约40 nm的钨探针,满足扫描隧道显微镜(STM)使用的需求。Based on the basic principle of electrochemical corrosion , a liquid film preparation method which is simple and easy to be operated was studied to fabricate tungsten probe for STM .Results show that under the conditions that corrosion solution NaOH concentration is 2 mol/L and voltage is 2 V,the tungsten probes ’ tip radiuses of curvature are 40 nm,which meet the requirement of STM .

关 键 词：扫描隧道显微镜 探针 电化学腐蚀 曲率半径 

分 类 号：TQ15[化学工程—电化学工业]