检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:李远会[1,2] 郭忠诚[1] 万明攀[2] 黄碧芳[2] 张晓燕[2]
机构地区:[1]昆明理工大学冶金与能源工程学院,云南昆明650039 [2]贵州大学材料与冶金学院,贵州贵阳550003
出 处:《电镀与环保》2015年第3期6-8,共3页Electroplating & Pollution Control
基 金:国家自然科学基金(No.50964008);贵州省科学技术基金黔科合J字[2012]2114号
摘 要:综述了电镀法制备银基、铜基电接触材料的研究现状和发展趋势。采用电镀工艺制备多元微合金化铜合金镀层,将是今后铜基电接触材料研究的重要方向。The research status and development tendency of silver-based electrical contact material and copper-based electrical contact material prepared by electroplating were overviewed. Meanwhile, it was pointed out that preparation of multielement copper-based alloy coating by electroplating process will become an important research direction.
分 类 号:TQ153[化学工程—电化学工业]
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