(PSTT10/45)_4多层薄膜铁电性研究  

作　　者：李雪冬[1,2] 刘洪[2] 吴家刚[2] 刘刚[1] 肖定全[2] 朱建国[2] 

机构地区：[1]绵阳师范学院物理与电子信息工程系,四川绵阳621000 [2]四川大学材料科学与工程学院,四川成都610064

出　　处：《科技创新导报》2015年第12期6-7,共2页Science and Technology Innovation Herald

基　　金：国家自然科学基金(NO.60771016);绵阳师范学院科研课题(NO.QD2013A07)

摘　　要：以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出[0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTi 3/0.55Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.45PbTiO3]4铁电多层薄膜。采用两步法在峰值温度800℃对薄膜进行退火。通过x射线衍射分析了薄膜的物相结构,通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量。研究发现,薄膜展现出高度(100)取向的钙钛矿结构和增强的铁电性,其剩余极化2Pr=26.2μc/cm2,矫顽场2Ec=53.9 k V/cm,100 k V/cm下漏电流密度为1.87×10-4A/cm2。分析了铁电性增强和漏电流增大的可能原因。

关 键 词：多层薄膜 铁电性 电滞回线XRD 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业]