磁透镜对XPS分析测试的影响  

Influence of magnetic lens on XPS analysis

作　　者：蒋栋[1] 张帆[2] 

机构地区：[1]华东理工大学分析测试中心,上海200237 [2]华东师范大学化学系,上海200241

出　　处：《分析仪器》2015年第2期53-58,共6页Analytical Instrumentation

基　　金：上海市科委科研计划项目(13142201200);国家自然科学基金(21275054)

摘　　要：在X射线光电子能谱(XPS)分析测试中使用不同的X射线源作为激发源时,磁透镜的使用对于XPS的光电子计数率和光电子接收面积会产生不同的影响。同时,除了光电子计数率和光电子接收面积外,磁透镜的使用对于导电样品的XPS分析测试没有明显影响。但在对绝缘样品进行XPS分析测试时,磁透镜的使用决定了绝缘样品表面荷电中和的方式。According to the kind of X‐ray source used in X‐ray photoelectron spectroscopy （XPS） anal‐ysis ,the use of the magnetic lens had different influence on the count rate and the acceptance area of pho‐toelectron in XPS analysis. Except the influence above‐mentioned ,the use of the magnetic lens had no oth‐er obvious influence on XPS analysis of conductive specimens. How ever ,w hen the specimens w ere insula‐tive ,the use of the magnetic lens determined the method of the surface charge compensation.

关 键 词：XPS 磁透镜 X射线源 

分 类 号：TH744[机械工程—光学工程]