检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054
出 处:《压电与声光》2015年第3期460-463,共4页Piezoelectrics & Acoustooptics
基 金:国家自然科学基金资助项目(50972023)
摘 要:采用反应直流磁控溅射法在镍锌铁氧体基片上制备的TaN薄膜电阻器,由于镍锌铁氧体基片表面平整性差,散热性能低,制得的电阻器功率为1 W。通过制作CaO-Al2O3-SiO2(CAS)玻璃釉,以丝网印刷的方式对基片表面进行处理,再经过850℃烧结处理,得到具有一定表面平整性的基片。基于处理后的铁氧体基片制作的TaN薄膜功率电阻器的功率显著提高,从1 W提升到了2.5 W。TaN thin film resistors were prepared on Ni-Zn ferrite substrate by the reactive DC magnetron sputte- ring method. Since the Ni-Zn ferrite suhstrate had poor surface flatness and low heat dissipation, the power of the resistor was just 1 W. CaO-Al2 O3-SiO2 (CAS) glass glaze was made to treat the surface of the substrate by the man ner of screen printing,and then the substrate were sintered at 850 ℃, thus the substrate with a smooth surface was made. Finally, the power of resistors made on the treated substrates was greatly increased from 1 W to 2.5 W.
关 键 词:镍锌铁氧体基片 TaN薄膜电阻器 CAS玻璃釉 功率
分 类 号:TN384[电子电信—物理电子学] TM54[电气工程—电器]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:52.15.123.168