反射光谱包络线法测量光电薄膜的光学常数和厚度  

The Thickness and Optical Constants of Photoelectric Thin Film Have been Measured by Reflection Spectrum Envelope Method

作　　者：刘朝霞[1] 楚合营[1] 黄新成[1] 张景川[1] 

机构地区：[1]塔里木大学,新疆阿拉尔843300

出　　处：《大学物理实验》2015年第3期11-14,31,共5页Physical Experiment of College

基　　金：塔里木大学校长基金项目(TDZKSS201324);高教研究课题(TDGJ1316)

摘　　要：提出了一种利用薄膜反射光谱包络线法计算光电薄膜光学常数和厚度的方法。当一束光照射在基板上的介质膜上时,由于薄膜上、下界面反射光的相干,会使反射光谱的曲线有一定的波动。本文对反射光谱进行了理论分析,给出计算公式,从测量曲线中的实验值得出薄膜的厚度和光学常数。此种方法计算过程简单、迅速,而且易于编程处理。A method to calculate thickness and optical constants of photoelectric film is introduced. When a light beam is incident on the film,the reflection light beams at the front and rear faces are coherent. In this pa-per,we calculated the thickness and optical constants of the film from the reflection spectrum. This simple method saves time,and makes a directly programmable calculation possible.

关 键 词：光电薄膜 厚度 光学常数 反射光谱 

分 类 号：O4-34[理学—物理]