钼靶材的制作方法  

出　　处：《中国钼业》2015年第2期45-45,共1页China Molybdenum Industry

摘　　要：专利申请号：CN201210260409．8 公开号：CN103567445A 申请日：2012．07．25 公开日：2014．02．12 申请人：宁波江丰电子材料有限公司 一种钼靶材的制作方法，包括：提供钼粉末；采用静压工艺将钼粉末进行第一次致密化处理，形成第一钼靶材坯料；将第一钼靶材坯料放入包套并抽真空；采用冷等静压工艺将包套内的第一钼靶材坯料进行第二次致密化处理，形成第二钼靶材坯料；第二次致密化处理后，去除包套，采用感应烧结工艺将第二钼靶材坯料进行第三次致密化处理，形成第三钼靶材坯料；第三次致密化处理后，采用热轧工艺将第三钼靶材坯料进行轧制，形成第四钼靶材坯料；热轧工艺后，对第四钼靶材坯料进行退火处理形成钼靶材。采用本发明提供的钼靶材的制作方法，能够制作出全致密度钼靶材，钼靶材的内部组织结构的均匀性和晶粒尺寸、纯度和表面尺寸满足要求越来越高的溅射工艺。

关 键 词：钼粉末 靶材 制作 专利名称 等静压工艺 热轧工艺 专利申请号 致密化 

分 类 号：TD983-18[矿业工程—选矿]