光明院成功实现三氟化硼技术成果转让  

出　　处：《低温与特气》2015年第3期54-54,共1页Low Temperature and Specialty Gases

摘　　要：20世纪50年代，为了满足国防化工的需要，公司开展了三氟化硼的合成、分析研究，对三氟化硼特点进行了系统性摸索，获得了三氟化硼纯化装置设计必需的软件包。80年代，随着我国电子工业的迅猛发展，三氟化硼成为半导体生产必须的掺杂源，公司承担化工部课题，率先在国内对三氟化硼的分析、包装、净化等进行了系统性研究，最终项目获得了化工部科技进步三等奖及国家发明专利。该项目也是光明院承担的国家“02”重大专项的品种之一。

关 键 词：三氟化硼 成果转让 技术 国家发明专利 半导体生产 化工部 装置设计 电子工业 

分 类 号：TQ128[化学工程—无机化工]