ITO陶瓷靶材的制备方法及研究现状  

Preparation Methods of ITO Ceramic Target and Research Status

作　　者：张明杰[1] 陈敬超[1] 彭平[1] 于杰[1] 吴涛[1] 

机构地区：[1]昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室,云南昆明650093

出　　处：《热加工工艺》2015年第12期35-39,共5页Hot Working Technology

基　　金：新国家自然科学联合基金资助项目(u0837601);新国家基金资助项目(50874054);云南省创新团队(2009CI003);云南省自然科学基金资助项目(2008CD087)

摘　　要：介绍了ITO靶材的各种性能及应用,综述了目前常用的几种靶材成形方法和烧结工艺以及他们的研究现状,并对ITO靶材今后的发展趋势进行了展望。The properties and applications of ITO target were described. The common forming methods, sintering process and its research status were summarized. Meanwhile, the future development trend of ITO target was prospected.

关 键 词：ITO靶材 成形方法 烧结工艺 

分 类 号：TB332[一般工业技术—材料科学与工程]