四氟化硅的制备与提纯  

Preparation and Purification of Silicon Tetrafluoride

作　　者：陈学航 李焱[1] 张建刚[2] 高文龙[2] 曹旭[1] 陈烨[1] 刘振东[3] 

机构地区：[1]贵州大学化学与化工学院,贵阳550025 [2]贵州省产品质量监督检验院,贵阳550004 [3]中国航天建设集团有限责任公司,北京100039

出　　处：《硅酸盐通报》2015年第7期1891-1895,共5页Bulletin of the Chinese Ceramic Society

基　　金：贵州省科学技术基金项目(黔科合J字[2013]2158号);国家质检总局科技计划项目(2013QK251)

摘　　要：四氟化硅(SiF4)是电子和半导体行业中的一种重要原料,在光伏产业中占重要地位。详细介绍了四氟化硅的主要制备方法:硫酸法、Si-F2直接合成法、氟硅酸盐热解法和氢氟酸法,并对四氟化硅提纯工艺进行了比较。Silicon tetrafluoride（ Si F4） is an important raw material in electronics and semiconductor industry,which also plays an important role in the photovoltaic industry. This paper introduces the main production methods of silicon tetrafluoride,for instance,sulfuric acid method,Si-F2 direct synthesis method,fluoride and hydrofluoric acid silicate pyrolysis method. Moreover,purification processes of silicon tetrafluoride are also compared in the paper.

关 键 词：四氟化硅 氟硅酸盐法 提纯 

分 类 号：TQ127[化学工程—无机化工]