脉冲束流引出时的等离子体鞘层变化  

Evolution of plasma sheath in pulsed ion beam extractions

作　　者：柯建林[1] 周长庚[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院核物理与化学研究所,四川绵阳621900

出　　处：《强激光与粒子束》2015年第8期251-255,共5页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家自然科学基金项目(50977091)

摘　　要：采用一维无碰撞的动力学鞘层模型计算了脉冲等离子体在恒压引出时的等离子体鞘层厚度变化,分别对短脉冲和长脉冲放电时的离子源发射面演变进行了分析。结果表明:对于短脉冲放电,发射面位置的变化相对等离子体密度的变化存在一定时间的延迟;对于长脉冲的上升沿和直流放电的开启阶段,鞘层厚度变化的速度与离子初始速度相关,稳定后发射面的位置与离子初始速度和等离子体密度的乘积相关。A 1Ddynamic sheath model of collisionless plasma is used to calculate the change of sheath edge with time.The calculation is performed for short duration pulses and long duration pulses respectively.For short duration pulses,the plasma sheath edge lags behind the plasma density.For long duration pulses,the velocity of the sheath edge movement is correlative to the initial ion velocity.The steady edge location is correlative to the product of the initial ion velocity and the plasma density.

关 键 词：脉冲离子束 发射面 束流引出 鞘层厚度 

分 类 号：TL501[核科学技术—核技术及应用]