氟硼二吡咯类材料的放大自发发射性能  

Amplified Spontaneous Emission Properties of a BODIPY Derivative

作　　者：张镭[1,2] 杨杨[3] 林杰[1] 刘星元[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,发光学及应用国家重点实验室,长春130033 [2]中国科学院大学,北京100039 [3]内蒙古民族大学化学化工学院,内蒙古通辽028000

出　　处：《吉林大学学报（理学版）》2015年第5期1027-1030,共4页Journal of Jilin University:Science Edition

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51102228);内蒙古自然科学基金博士基金(批准号:2014BS0205);内蒙古民族大学博士科研启动基金(批准号:BS311)

摘　　要：采用光泵浦的方法研究苯基取代氟硼二吡咯类材料（PhBOD）的放大自发发射（ASE）性能.结果表明：当PhBOD的甲苯溶液浓度为0.006-0.04mol/L时,其ASE阈值随浓度的增加逐渐降低;浓度为0.008 mol/L样品的ASE阈值约为99kW/cm^2;当浓度为0.013mol/L时,ASE的输出效率最高,为23.1%;在相同位置经紫外脉冲激光20万次泵浦,ASE的强度约衰减为初始强度的85.4%,表明PhBOD是一种光稳定性较高的激光材料.Amplified spontaneous emission（ASE）properties of a BODIPY derivative（PhBOD）in toluene solution were studied under optical pumping.The ASE threshold was decreased with the increase of the concentration in a range of 0.006—0.04 mol/L.The ASE threshold is about99kW/cm^2 at a concentration of 0.008 mol/L.The ASE efficiency reached the highest value of23.1% at a concentration of 0.013mol/L.The ASE intensity remains 85.4% of the initial value after2×10^5 pulses at the same position,which implies a very high photostability of the PhBOD material.

关 键 词：氟硼二吡咯 放大自发发射 光稳定性 

分 类 号：O432.1[机械工程—光学工程]