两种耐磨涂层摩擦特性研究  

作　　者：杨静远[1] 李茂林[1] 韩冬傲 徐雨婷 

机构地区：[1]环境保护部核与辐射安全中心,北京100082

出　　处：《化学工程与装备》2015年第11期12-13,22,共3页Chemical Engineering & Equipment

摘　　要：论文研究了采用四靶闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)技术获得Cr Ti Al N化合物涂层的偏压、溅射功率和气压等各种工艺参数和条件,以及采用S型弯管磁过滤阴极真空电弧沉积(FCVA)技术,获得ta-C涂层的工艺参数和条件。论文对上述涂层各自在不锈钢基底上的摩擦学特性进行了研究。涂层的摩擦系数采用WTM-2E可控气氛微型摩擦磨损试验仪测量;采用X射线光电子能谱(XPS)分析了涂层化学成分,证明了形成的化合物涂层;采用XJP-6A型金像显微镜观察涂层磨损形貌,分析了表面磨损状况。通过比较分析发现:在正常磨损条件下,ta-C涂层比Cr Ti Al N化合物涂层的摩擦系数小,特性好,因此,以ta-C涂层为基础的复合涂层技术将具有更为广泛的应用前景。

关 键 词：磁过滤阴极弧 闭合场非平衡磁控溅射 摩擦磨损 

分 类 号：TQ163[化学工程—高温制品工业] TB306[一般工业技术—材料科学与工程]