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机构地区:[1]天津科技大学材料科学与化学工程学院,天津300457
出 处:《化工新型材料》2016年第2期201-203,共3页New Chemical Materials
基 金:教育部新世纪优秀人才支持计划(NCET-12-1064)
摘 要:以氨基封端的3-氨基丙基三甲氧基硅烷(APTMOS)和α-溴代异丁酰溴(BIBB)为原料,制备了溴化三甲氧基硅烷(BrTMOS),并以此为引发剂,在硅片基质上引发甲基丙烯酸寡聚乙二醇酯(OEGMA)的原子转移自由基聚合(ATRP)。采用红外光谱、核磁共振、水接触角对产物的化学组成及表面特性进行表征。Brominated trimethoxysilane (BrTMOS) was prepared via the coupling reaction between 3-aminopropyl triethoxysilane (APTMOS) and a-bromoisobutyryl bromide (BIBB). The resulting BrTMOS was used as ATRP initiator for the polymerization of oligo(ethy[ene glycol) methacrylate (OEGMA) on Si wafer suhstrate. The chemical composition and surface properties of the obtained material were characterized by FT-IR,1H-NMR and water contact angle measurements.
关 键 词:溴化三甲氧基硅烷(BrTMOS) 原子转移自由基聚合(ATRP) 甲基丙烯酸寡聚乙二醇酯(OEGMA)
分 类 号:TQ316.322[化学工程—高聚物工业]
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