2016年第20届国际干燥学术会议邀请函  

IDS 2016 20th International Drying Symposium Call for Papers

出　　处：《干燥技术与设备》2016年第1期44-44,共1页

摘　　要：第20届国际干燥会议将于2016年8月7日到10日在日本岐阜长良川会议中心举行。本届国际干燥会议目的在于提供一个最先进和完备全球性交流平台，以宣传干燥科学技术领域的最新进展。欢迎学者就各自领域最近研究成果投稿，投稿不局限于以下会议主题。会议将根据作者偏好安排口头发言或墙报。

关 键 词：干燥 学术会议 国际 日本 邀请函 交流平台 科学技术 研究成果 

分 类 号：N02[自然科学总论—科学技术哲学]