检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:方景礼[1,2]
机构地区:[1]南京大学,江苏南京210093 [2]广东哈福研究所,广东中山528434
出 处:《印制电路信息》2016年第4期52-56,共5页Printed Circuit Information
摘 要:文章分析了目前工业用的水基清洗和有机溶剂清洗技术,因对大气臭氧层的破坏以及对环境的污染问题,已不太适于电子工业发展的需要。目前最有希望的替代工艺就是超临界CO_2清洗技术,详细介绍了超临界CO_2清洗新技术的原理,使用条件与方法,新技术的优缺点及应用范围,强调该技术值得全国推广应用。This article analyzes the current industrial water-base cleaning and organic solvent cleaning technology,which is not good for the electric industrial development due to the atmospheric ozone layer destruction and pollution to the environment problem.At present the most promising alternative technology is surpercritical CO2 cleaning technology.This paper indroduces in detail the principal of supercritical CO2 cleaning new technology,using conditions and the method,the advantages and disadvantages of new technology and application scope,and put emphasis on the technology is worth popularization and application of the country’s new technology.
关 键 词:清洗技术 水基清洗 有机溶剂清洗 超临界CO2清洗 电子元件的污染
分 类 号:TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]
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