低电流低电压条件下的医用钛合金微弧氧化工艺研究  

作　　者：韩帆[1] 范兴平[1] 李宏[1] 何洁[1] 李青[1] 况浩 陈萌[1] 

机构地区：[1]攀枝花学院材料工程学院,四川攀枝花617000

出　　处：《攀枝花学院学报》2016年第A01期123-126,共4页Journal of Panzhihua University

基　　金：2015年校级大学生创新创业项目"医用钛合金微孤氧化工艺研究"

摘　　要：本文以微弧氧化工艺为研究对象,研究Ti-6Al-4V(TC4)在恒流恒压的条件下微弧氧化所得到的表面情况。并通过数字显微镜观察成膜情况以及膜层厚度,实验表明:在磷酸盐与硅酸盐混合电解液体系下,Ti-6Al-4V(TC4)能够在低电流低电压的情况下发生微弧氧化,且最佳实验条件是电流密度为0.3A,反应时间20min,得到的膜层厚度为119μm。

关 键 词：TI-6AL-4V 微弧氧化 镀膜 

分 类 号：TG178[金属学及工艺—金属表面处理]