单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理  

Controllable preparation of monodisperse silica and the formation mechanism under the condition of high concentration of tetra-ethyl-orthosilicate

作　　者：赵立强[1,2] 南泉 金花子[2] 

机构地区：[1]青岛科技大学化学与分子工程学院,山东青岛261500 [2]中国科学院金属研究所表面工程研究部,辽宁沈阳110106

出　　处：《化学工程师》2016年第7期1-5,共5页Chemical Engineer

基　　金：国家重大科学仪器设备开发专项;No:2013YQ24042102

摘　　要：采用Stber法,在60℃,正硅酸乙酯(TEOS)浓度为1mol·L^(-1)的条件下制备得到粒径为55nm的SiO_2,多分散指数(Polydispersity Index,PDI)为0.05,显示了良好的单分散性,找到了一种在高TEOS浓度、高温条件下制备单分散纳米SiO_2的方法,并探讨了制备机理。同时还研究了TEOS、水和NH_3·H_2O浓度以及反应温度对产物颗粒粒径及其分布的影响。Nanometer silica has been prepared through St6ber method with high concentration of TEOS at 60℃. The Polydispersity Index is equal to 0.05, which shows good monodispemion. This is a method of preparing monodisperse nano silicon dioxide at high TEOS concentration and high temperature. Meanwhile, the preparation mechanism and the effect of the temperature and the concentration of TEOS, H2O and NH3·H2O on the particle size and its distribution are studied.

关 键 词：Stober法 纳米二氧化硅 单分散 制备机理 

分 类 号：O643.12[理学—物理化学]