三星、台积电7纳米对决恐撼动晶圆代工版图  

出　　处：《半导体信息》2016年第3期29-29,共1页Semiconductor Information

摘　　要：三星电子（Samsung Electronics）与台积电在新一代晶圆代工战局进入白热化,双方将10纳米制程量产目标订在2016年底,近期三星更进一步扩大投资,向荷兰微影设备大厂ASML订购极紫外光微影制程（EUV）扫描机。

关 键 词：三星电子 纳米制程 晶圆代工 台积电 版图 扫描机 紫外光 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]