V2O5 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering： The Influence of Oxygen Content in Physical Properties  

作　　者：Dwight Acosta Argelia Perez Carlos Magana Francisco Hemaindez 

机构地区：[1]lnstituto de Fisica, Universidad Nacional Aut6noma de M~xico, A.P. 20 364, 01000, Ciudad de Mdxico, MEXICO

出　　处：《材料科学与工程（中英文A版）》2016年第2期81-87,共7页Journal of Materials Science and Engineering A

关 键 词：射频磁控溅射 沉积薄膜 物理特性 氧含量 V2O5薄膜 透射电子显微镜 电致变色性能 玻璃基板 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] O539[理学—物理]