中昊光明公司获一发明专利授权  

出　　处：《低温与特气》2016年第4期52-52,共1页Low Temperature and Specialty Gases

摘　　要：由中昊光明公司自主研发的“一种深度脱除氧化亚氮中水和二氧化碳的装置与方法”获得国家发明专利授权，专利号为ZL201410360551．9。高纯氧化亚氮主要用于半导体光电器件研制生产的介质膜工艺，是直接影响光电器件质量不可替代的关键气体。

关 键 词：专利授权 发明 半导体光电器件 氧化亚氮 二氧化碳 自主研发 器件质量 专利号 

分 类 号：TQ028.2-18[化学工程]