近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备  

Optimization design and preparation of near ultraviolet broadband reflector coating

作　　者：姚春龙[1,2] 宋光辉[1] 雷鹏[1] 王银河[1] 张新敏[2] 

机构地区：[1]沈阳仪表科学研究院有限公司,辽宁沈阳110043 [2]沈阳工业大学机械工程学院,辽宁沈阳110870

出　　处：《光学仪器》2016年第4期372-376,共5页Optical Instruments

基　　金：沈阳仪表科学研究院有限公司科研基金项目(Y1020-6101)

摘　　要：依据紫外光学系统中紫外反光镜的使用要求,并结合汞灯发光光谱,提出了只〉93%@300-450 nm（R为反射率）;Tavg〉85%@500-1 000 11111（Tang表示平均透过率）的近紫外区宽带高反射率的设计指标.选用Ta20 5 和SiO2 分别作为高低折射率材料,并采用正交试验法确定了 Ta2O 5和SiO2 膜料的折射率、消光系数和制备工艺参数.在规整周期性膜系的基础上,利用膜系设计软件进行优化设计,同时分析了膜层的敏感度,保证了镀制的可重复性.通过曲线测试和环境试验结果表明,该膜系满足设计使用要求.According to the operating requirements of ultraviolet reflector in the ultraviolet opticalsystem, and with mercury lamp luminescent spectrum, the near ultraviolet broadband highreflectance design index of R 〉 93 % （300 -450 nm） and Tavg 〉 85 % （500 -1 000 nm） arepresented The refractive index, extinction coefficient and technological parameters of preparation ofTa2Q and SiO2 coating materials are determined by orthogonal test, with Ta2Q and SiO2 as high andlow refractive index materials. Based on the regular periodic coating, the coating is optimallydesigned. Meanwhile, the sensitivity of the film is also analyzed to ensure the repeatability ofcoating. The results of curve test and environmental test show that the coating meets the designrequirements.

关 键 词：近紫外 超宽带 高反射 膜系设计 折射率 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]