KLA-Tencor宣布推出新型光掩膜检测系统  

出　　处：《中国集成电路》2016年第9期6-6,共1页China lntegrated Circuit

摘　　要：近日，KLA—Tencor公司针对10nm及以下的掩膜技术推出了三款先进的光掩膜检测系统，Teron咧640、TeronTMSL655和光掩膜决策中心（RDC）。所有这三套系统是实现当前和下一代掩膜设计的关键，使得光掩膜厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著并严重损害成品率的缺陷。

关 键 词：掩膜技术 检测系统 集成电路 KLA 成品率 

分 类 号：TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]