CEO过度自信与高新技术企业价值:研发投资的门槛效应  

作　　者：卢君生[1] 朱艳阳[1] 

机构地区：[1]湖北文理学院管理学院

出　　处：《财会月刊（下）》2017年第4期34-38,共5页Finance and Accounting Monthly

基　　金：国家自然科学基金项目(项目编号:71273271);湖北省软科学研究项目(项目编号:2015BDF086)

摘　　要：本文基于我国2010~2015年高新技术上市企业研发数据,运用平衡面板门槛模型和非平衡面板固定效应模型,实证检验了研发投资的不同阶段,CEO过度自信对企业价值的影响差异。结果发现,CEO过度自信经由研发投资对企业价值的影响,以及对两者关系的调节作用,均是非线性的,存在基于研发投资的双门槛效应。只有研发投资强度处于4.7%~9.3%的最优区间时,过度自信的CEO才能显著提升企业价值,否则提升效果不明显,甚至产生负面影响。

关 键 词：CEO过度自信 企业价值 研发投资 门槛效应 

分 类 号：F830.9[经济管理—金融学]