格氏法一步合成多(4-甲氧基苯基)硅烷的工艺研究  

One-step Preparation of Multi(methoxyphenyl) silicane Using High-activity 4-OMePhMgBr to React with Multichlorosilane

作　　者：邱元元 胡晓丹[1] 张伟[1] 张晓红[1] 张海黔[1] 

机构地区：[1]南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京211106

出　　处：《科学技术与工程》2017年第12期127-132,共6页Science Technology and Engineering

基　　金：国家自然科学基金(31400721;11575086);江苏高校优势学科建设工程资助

摘　　要：以少量四氢呋喃(THF)引发对溴苯甲醚(4-OMePhBr)制备高活性的对甲氧基苯基溴化镁(4-OMePhMgBr),与三氯硅烷(HSiCl_3)或丙基三氯硅烷(CH_3CH_2CH_2SiCl_3)反应,一步法制备出三(4-甲氧基苯基)硅烷[HSi(_4-OMePh)_3]和四(4-甲氧基苯基)硅烷[Si(4-OMePh)_4]。实验表明:V(THF):V(4-OMePhBr)为0.2左右时,格氏试剂产率可达90%以上,且较易生成预期产物;该比值大于0.4后,再与HSiCl_3或CH_3CH_2CH_2SiCl_3反应,很难生成预期产物;且该类格氏试剂会破坏Si-C键。因此,重点优化了HSi(4-OMePh)_3的工艺:4-OMePhMgBr滴加温度为5℃;n(HSiCl_3):n(4-OMePhMgBr)=0.2∶1,65℃保温1 h,产品收率可达54.3%。采用核磁、紫外光谱、荧光光谱对其表征。A high-activity 4-OMePhMgBr was preparaed with little THF and Grignard reagent yield can reach 90% ,by reacting with HSiCl3 or CH3CH2CH2SiCl3, HSi（4-OMePh）3 and Si（4-OMePh）4 can be preparaed by one- step method respectively. When V（THF） ： V（4-OPhBr） is within 0. 2, the expected products can be obtained. Besides ,Si-C has been destructed by Grignard reagent, therefore, an expected product can hardly obtained when 4-OMePhMgBr reacting with CH3CH2CH2SiCl3, the optimum process of synthesis HSi （4-OMePh）3 is as follows： 4-OMePhMgBr was added at 5 ℃ ,n（HSiCl3） ： n（4-OMePhMgBr） =0. 2： 1,reflux temperature is 65 ℃ in 1 h,the yield can reach 54. 3%. Characterization is ^NMR,ultraviolet spectrum,fluorescence spectra.

关 键 词：一步法 高活性 对甲氧基苯基溴化镁 三(4-甲氧基苯基)硅烷 四(4-甲氧基苯基)硅烷 

分 类 号：O621.2[理学—有机化学]