掺铜的硅基介孔材料合成与应用研究进展  

Research advance on synthesis and application of Cu doped mesoporous silica materials

作　　者：连海霞[1] 王晓钟[1] 董家鑫[1] 吕伟伟[1] 王政[2] 

机构地区：[1]太原理工大学精细化工研究所化学化工学院煤科学与技术省部共建国家重点实验室培育基地,山西太原030024 [2]宁夏大学省部共建煤炭高效利用与绿色化工重点实验室,宁夏银川750021

出　　处：《应用化工》2017年第5期998-1001,共4页Applied Chemical Industry

基　　金：煤科学与技术省部共建国家重点实验室培育基地开放课题(mkx201707);山西省自然科学基金项目(2012011005-5);煤转化国家重点实验室开放基金项目(11-12-602)

摘　　要：综述了国内外对掺杂铜的硅基介孔材料最新的改性研究进展。主要概括了采用直接合成法和合成后移植法合成铜掺杂的硅基介孔材料,较全面地比较了各合成方法之间的区别,并对材料在催化和吸附脱硫领域的应用进行探讨,同时,提出了掺铜的硅基介孔材料存在的一些问题以及对其发展前景进行展望。The paper introduces two approaches for preparation of doping of Cu into the mesoporous silica materials by direct synthesis method and synthetic after grafting, compared to the difference between vari-ous synthesis methods,and then discusses the practical application in adsorption desulfurization and catal-ysis. In addition,the existing problems and development trend of Cu-mesoporous silica materials are alsodiscussed.

关 键 词：硅基介孔材料 金属铜 合成 应用 

分 类 号：TQ050.43[化学工程] O613.72[理学—无机化学]