卤代烷类化合物紫外光解离过程的研究  

On UV Photo-dissociation Process of Halogen Alkyl Compound

作　　者：张仁熙[1] 朱杰[1] 潘循皙[1] 侯惠奇[1] 

机构地区：[1]复旦大学环境科学研究所,上海200433

出　　处：《复旦学报（自然科学版）》2002年第4期356-360,共5页Journal of Fudan University：Natural Science

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (2 94 772 6 52 96 0 70 0 1)

摘　　要：探讨了在 185 ,2 5 3.7,337.1nm的条件下 ,卤代烷类化合物CH3 Br、CH2 Br2 、CF2 ClBr、CF3 Br、CF2 HCl、CF3 Cl的光解离机理 ,对CH3 Br +O2 /O3 、CH2 Br2 +O2 /O3 、CF2 ClBr +O2 /O3 、CF3 Br +O2 /O3 、CF2 HCl +O2 /O3 、CF3 Cl+O2 /O3 等体系的光化学反应过程及其产物进行了分析 ,重点讨论了含F卤代烷光氧化的共同产物CF2 O的产生机理和它的稳定性 。The mechanism of photochemical reactions,under the irradiation of 185,253.7,337.1 nm,of halogen alkyl compounds,CH 3Br,CH 2Br 2,CF 2ClBr,CF 3Br,CF 2HCl,CF 3Cl,has been explored. The photo reaction processes for the systems of CH 3Br+O 2/O 3,CH 2Br 2+O 2/O 3,CF 2ClBr+O 2/O 3,CF 3Br+O 2/O 3,CF 2HCl+O 2/O 3,CF 3Cl+O 2/O 3 have been analyzed. CF 2O,the common photo oxidation product of CF 3Cl,CF 2HCl,CF 2ClBr,CF 3Br,was further studied on its reasonable mechanism of formation and its stability. A control way of ozone depletion has also been explored.

关 键 词：卤代烷类化合物 紫外光 解离 臭氧损耗 

分 类 号：O611.4[理学—无机化学]