浅谈不同退火方式对HDDR工艺的影响  

作　　者：车幸润 

机构地区：[1]宁波招宝磁业有限公司,浙江宁波310000

出　　处：《华东科技（学术版）》2017年第6期450-450,共1页east china science & technology

摘　　要：钕铁硼永磁材料在现代科学技术各领域,如计算机、信息、通讯、航空航天、交通运输（汽车）、办公自动化、家电技术与人体医疗和保健等方面已获得广泛的应用.HDDR工艺（Hydrogenation-Disproportionation-Desorption-Recombination）作为制备各向异性粘结磁体用磁粉的方法是目前最有可能实现大规模工业化生产的一种工艺. 本文重点研究了不同的退火工艺对 HDDR脱氢程度为 0.1Pa、 1Pa、 10Pa的 NdFeB磁粉磁学性能的影响,讨论了其最佳后处理工艺,寻求利用退火处理来替代部分脱氢时间,从而提高其生产效率.

关 键 词：HDDR 各向异性 退火 

分 类 号：TG156.2[金属学及工艺—热处理]