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作 者:谢东辉[1] 张静[1] 秦智[1] 于敏[1] 彭伟锋[1]
出 处:《金属材料研究》2017年第3期9-17,共9页Research on Metallic Materials
摘 要:本文研究了扩散退火温度和时间对电阻型热双金属R40的界面扩散行为的影响,并结合扩散基本原理对界面合金元素的扩散规律进行了计算分析,推导了界面扩散层厚度随扩散退火温度和时间变化的关系式。结果表明:FeNi22Cr3-Ni和FeNi36-Ni界面的扩散趋势基本相同,界面扩散层为固溶体组织,扩散层厚度的生长与扩散时间的平方根t1/2和扩散温度T的e-1/T的成正比。In this paper, the effect of diffusion annealing temperature and time on the in- terracial diffusion behavior of resistance type R40 thermal bimetal was studied, combined with the basic principle of diffusion, the diffusion law of interface alloy elements was calculat- ed and analyzed, and the relation that the interface diffusion layer thickness varying with dif- fusion annealing temperature and time was deduced. The results show that the diffusion trend of FeNi22Cr3-Ni and FeNi36-Ni interface is basically the same, and the interface diffu- sion layer is solid solution. The diffusion layer thickness is proportional to the square root of diffusion time tl/2and e-1/T of diffusion temperature T.
分 类 号:TB852.1[一般工业技术—摄影技术]
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