吡咯分子印迹聚合物的密度泛函理论计算及分析  

作　　者：张秀梅[1] 王杰[1] 张凯[1] 刘俊杰[1] 吴雄伟[1] 汤剑锋[1] 王辉宪[1] 

机构地区：[1]湖南农业大学理学院,长沙410128

出　　处：《海峡科技与产业》2017年第9期140-141,共2页Technology and Industry Across the Straits

摘　　要：以吡咯(Pyrrole)为印迹分子,甲基丙烯酸(MAA)、4-乙烯基吡啶(4-Vp)、丙烯酰胺(AM)三种物质分别作为功能单体,运用密度泛函理论的M062X泛函,在6-31+G(d,p)基组下,模拟吡咯印迹分子与甲基丙烯酸、4-乙烯基吡啶、丙烯酰胺三种功能单体分子印迹聚合物自组装体系的构型,找到功能单体与模板分子结合所形成的复合物最优构型,并计算其结合能,并通过RDG函数的等值面分析来展现功能单体和吡咯分子弱相互作用类型。模拟计算结果表明,三种单体与MIP均是通过氢键的形式相互作用,而丙烯酰胺与吡咯之间相互作用最强,对MIP的识别能力最强,最适合作为制备吡咯分子印迹聚合物。

关 键 词：吡咯 分子印迹聚合物 弱相互作用 计算模拟 

分 类 号：O641.3[理学—物理化学]