我国光学薄膜精密微复制技术取得重要突破  

出　　处：《新疆农垦科技》2017年第11期I0003-I0003,共1页Xinjiang Farm Research of Science and Technology

摘　　要：经过3年科技攻关，我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破，成功打破国外技术垄断。由湖北航天化学技术研究所研究人员设计出特殊表面涂层微结构，开发出特殊刻印涂层树脂配方，在光学薄膜刻印涂层背面采用防眩、防划伤或防静电处理，提高产品收益率20％以上，极大地提高了我国新材料产业链科技水平。目前，这项技术已在我国重要国防项目中得到应用，申报发明专利10件。

关 键 词：复制技术 光学薄膜 科技攻关 表面涂层 技术垄断 研究人员 化学技术 涂层树脂 

分 类 号：TP311.13[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]