磁控溅射法制备多晶BiFeO_3薄膜  

Preparation of Polycrystalline BiFeO_3 Thin Films with the Magnetron Sputtering Method

作　　者：杨强[1] 陈蕊 王翼鑫 王丽丽[1] 

机构地区：[1]长春大学,吉林长春130022

出　　处：《科技创新与应用》2018年第1期40-41,共2页Technology Innovation and Application

基　　金：国家自然科学基金项目"基于交换偏置作用BiFeO3对NiFe2O4等磁性薄膜的电场调控"(编号:51302019);吉林省教育厅"十二五"科学技术研究项目"多铁性BiFeO3薄膜的制备及性能研究"(编号:2014299);吉林省产业创新专项资金项目"新型太阳能电池纳米晶薄膜(CZTS)的制备及性质研究"(编号:2017C052-3);吉林省省级经济结构战略调整引导资金专项项目"新型多功能碳化物的结构与性能研究"(编号:2014Y135);吉林省省级经济结构战略调整引导资金专项项目"基于zigbee通信技术下的配电登杆作业实训安全智能电子监护系统的设计与应用"(编号:2015Y71)

摘　　要：通过磁控溅射法在单晶Si(100)基片上生长了不同厚度的BiFeO_3多晶薄膜,对样品的结构、形貌、磁性进行研究。结果表明,通过改变溅射时间,影响薄膜微观结构。样品薄膜具有平整的表面。室温下,样品呈现反铁磁有序。BiFeO3 polycrystalline thin films with different thickness were grown on single crystal Si-100 substrates by magnetron sputtering. The structure, morphology and magnetic properties of the samples were studied. The results show that the microstructure of the films is affected by changing the sputtering time. The sample film has a flat surface. At a room temperature, the sample exhibits antiferromagnetic order.

关 键 词：BiFeO3多晶薄膜 磁控溅射法 单晶Si(100) 反铁磁 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]