高功率激光装置易损光学元件循环使用体系研究  

作　　者：贺少勃[1] 淡晶晶 徐隆波[1] 莫磊[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院,四川绵阳621900

出　　处：《科技成果管理与研究》2017年第12期35-38,共4页Management And Research On Scientific & Technological Achievements

摘　　要：文章对高功率激光装置易损光学元件循环使用现状进行了分析，在此基础上构建了一套涵盖循环总控、配套措施以及循环流程三个方面的光学元件循环使用体系，并提出了循环使用过程需遵循的性价比最高原则。对提高昂贵的精密光学元件的利用率，提升高功率激光装置的经济性和运行可靠性具有一定的指导意义。

关 键 词：高功率激光装置 光学元件 器材管理 

分 类 号：G311[文化科学] TN248[电子电信—物理电子学]