谈商标在先使用抗辩制度发展的立法构建  

作　　者：程功 刘远山[1] 

机构地区：[1]海南大学法学院,海南海口570100

出　　处：《黄冈职业技术学院学报》2018年第3期71-75,共5页Journal of Huanggang Polytechnic

摘　　要：我国现行《商标法》中的第59条第3款规定了商标在使用抗辩制度,但在我国司法实践中应该如何准确理解并适用这一制度依旧存在诸多争论,如"一定影响"的认定、商标在先使用人是否应"善意"等。为了进一步理解商标在先使用抗辩制度的法律适用问题,在前人研究成果的基础上,进一步提出了商标在先使用抗辩制度发展的立法构建,将商标在先使用抗辩制度的保护类型进行扩展,删除法条中规定的"一定影响"等等,希望能为未来的研究及司法实践提供有益参考。

关 键 词：商标法 商标在先使用 抗辩事由 善意 

分 类 号：D923.43[政治法律—民商法学]