10MeV电子直线加速器辐照控制工艺研究  

Study on irradiation control technology of 10MeV electron linear accelerator

作　　者：江海 袁肖肖 张伟 尹政 段明皞 JIANG Hai1;YUAN Xiao-xiao2;3;ZHANG Wei1;YIN Zheng1;DUAN Ming-hao1

机构地区：[1]北京机械工业自动化研究所有限公司,北京100120 [2]西北师范大学物理与电子工程学院,兰州730070 [3]中国科学院近代物理研究所,兰州730000

出　　处：《制造业自动化》2018年第7期144-147,共4页Manufacturing Automation

摘　　要：以10Mev电子直线加速器为研究对象,介绍横向、纵向及深度三个方向上辐照产品的均匀性研究。通过理论计算和CTA剂量片实际测量的三个方向的均匀性,总结出三个方向均匀性的约束条件,建立基于PLC程序的辐照控制工艺。本研究对10Me V辐照电子直线加速器的辐照工艺研究有一定指导意义。

关 键 词：电子加速器 辐照工艺 剂量分布 不均匀度 

分 类 号：TL503[核科学技术—核技术及应用]